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      產(chǎn)品中心

      當前位置:首頁產(chǎn)品中心ULVAC日本愛發(fā)科EGL-35MULVAC用于金屬薄膜生產(chǎn)的高通用性電子槍

      ULVAC用于金屬薄膜生產(chǎn)的高通用性電子槍
      產(chǎn)品簡介:

      ULVAC EGL-35M 用于金屬薄膜生產(chǎn)的高通用性電子槍
      ULVAC用于金屬薄膜生產(chǎn)的高通用性電子槍

      產(chǎn)品型號:EGL-35M

      更新時間:2025-11-12

      廠商性質(zhì):代理商

      訪問量:145

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      ULVAC用于金屬薄膜生產(chǎn)的高通用性電子槍

      ULVAC用于金屬薄膜生產(chǎn)的高通用性電子槍


      適用于金屬薄膜生產(chǎn)的高通用性電子槍,擁有豐富的應(yīng)用實例


      電子槍
      用于金屬的EB源_EGL系列
      Model: EGL

      ULVAC

      EGL 系列電子束蒸發(fā)源是 ULVAC 多年技術(shù)積累和業(yè)績記錄的結(jié)果,旨在提高性能和可靠性。 EGL 系列擁有各種類型的噴槍陣容,可用于任意多層薄膜沉積、厚膜的高速沉積和超高真空實驗。
      • ULVAC用于金屬薄膜生產(chǎn)的高通用性電子槍

        EGL-103S

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        EGL-35

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        EGL-35M

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        EGL-110

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        EGL-80M

      特點

      • 由于電子束被電磁場偏轉(zhuǎn),因此二次電子對沉積體的影響極小。

      • 即使是可升華的材料,也可以通過掃描 X 軸和 Y 軸上的光束點來順利蒸發(fā),從而消除挖洞現(xiàn)象。 (日本國 831485 號 843447)

      • 電子束是 270° 偏轉(zhuǎn)的,因此不會暴露在蒸發(fā)材料的蒸氣中,燈絲的使用壽命長。

      • 發(fā)射器組件易于安裝和拆卸,便于更換燈絲、絕緣體等。

      規(guī)格

      ModelEGL-103SEGL-35EGL-35MEGL-110EGL-80M
      電子束偏轉(zhuǎn)角270°
      坩堝數(shù)量31414
      坩堝容量10cc40cc40cc ×2/10cc×2110cc
      坩堝尺寸: 頂部 × 底部× 深度35Φ×31Φ×11H(mm)50Φ×41Φ×25H(mm)50Φ×41Φ×25H(mm)/32Φ×24Φ×15H(mm)75Φ×59Φ×32H(mm)75Φ×57Φ×32H(mm)
      冷卻水量爐邊10L/min 或更高19L/min 或更高20L/min 或更高
      其他2L/min 或更高-2L/min 或更高4L/min 或更高
      尺寸(W×D×H) 不包含突起313×250×108(mm)160×206×79(mm)170×240×156(mm)136×220×90(mm)265×318×168(mm)
      質(zhì)量約16公斤約10公斤約18公斤約15公斤約30公斤
      沉積速率-1.8μm/min 或更高
      (Al/8kW/ハ爐膛正
      上方 250H)
      1.6μm/min 或更高
      (Al/8kW/爐膛正上方 250H)
      4.5μm/min 或更高
      (Al/16kW/爐膛正
      上方 250H)
      4μm/min 或更高
      (A| 16kW,/爐膛正
      上方 250H)
      最大加速電壓-10kV
      最大發(fā)射電流0.6A1.0A1.6A
      適用電源HPS-1000N-100/HPS-1000N-200HPS-1600F-DS100/HPS-1600F-DS200HPS-1600F-DS101



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